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技术交流
2024 06-11
一文了解半导体干法刻蚀技术
刻蚀是指通过物理或化学方法对材料进行选择性的去除，从而实现设计的结构图形的一种技术。目前的半导体器件许多采用台面型器件结构设计，台面形成的方法主要有湿法腐蚀和干法刻蚀两种，尽管在半导体器件的制备中，简单而快速的湿法腐蚀发挥了很大的作用，但由于该方法同时又具有腐蚀各向同性、均匀性较差等缺点，导致其在完
